陶瓷蝕刻環是半導體刻蝕工藝的關鍵部件。當選擇鋁合金作為刻蝕腔體材料時，很容易造成金屬顆粒污染。因此，高純度（99.5% 以上）氧化鋁陶瓷被用于制造陶瓷蝕刻環，作為等離子刻蝕設備的腔體材料。 高純氧化鋁99.7%-99.9